Empresas24 de julio de 2026 · 5 min
China esquiva 2.000 patentes de ASML con nuevo truco láser para litografía UVE
La Academia China de Ciencias ha presentado una fuente de luz UVE por láser de estado sólido que evita 2.000 patentes de ASML. El avance, liderado por el exinvestigador de ASML Lin Nan, podría acelerar la producción propia de chips avanzados en China y desafiar el monopolio neerlandés.